CTO David Aldape, 具有超過30年的行業經驗，他帶領一支專業的研發工程師隊伍, 致力于不斷加強當前生產工藝以 及先進技術的研發工作。
2016-2017研發項目：提高厚徑比到30:1或更高；大而薄的背板能力；阻抗控制公差降到±5%或更小；先進電鍍和光成形方法介紹；
提高層間對位的先進工具系統；持續驗證新物料，用于HDI, 高速低損，更薄結構和組件應用（如ZETA?，I-Tera?, I-speed?,Tachyon G100?,Megtron7N,andEMC 891k&890）；深微孔研究（L1-L3，厚徑比1:1或更大）；散熱方案：金屬芯板，導電 漿（Ormet 和Tatsuta）；
埋元器件PCB板
提供更高的布線密度、優化阻抗控制、 RF 微孔方案、BGAs 表面實心銅電鍍、 改善電流的運載能力
散熱管理方案、優良的熱分布、 加強熱傳導性、銅芯 CTE 17ppm/C、 導熱 385 WmK
內埋電阻、航空航天，通訊、 微波和醫療
全內層疊孔提升線路設計的自由度、 實心銅提供更好的可靠性、 電性能更優異
埋阻和印制的內部電阻、埋容/介質層絕緣、 扁平化變流器和變壓器、 嵌入式半導體和薄晶元、 軟硬結合板嵌入式元件
嵌入芯片供 Gold Wire Bonding、 厚度有限的連接器
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